電(diàn)解處理--去除鍍液金屬雜質方(fāng)法

發表時間(jiān):2022/04/10 閱讀量:1442 來源: 深圳榴莲APP下载污

  電解處理是大家在電鍍工(gōng)業中常用的去除雜質(zhì)的方法。電解處理(lǐ)亦(yì)是一個電鍍過(guò)程,不過它不是以(yǐ)獲得良好電(diàn)鍍層為目的,而是以去除雜質(或調整鍍液成分含(hán)量)為目的。所不同的(de)隻(zhī)是在陰極上不吊掛零件,而是改為(wéi)吊掛以去除雜質而製作的電解板(又稱(chēng)假陰極)。在通電的情況(kuàng)下,使雜質在陰極(jí)電解板上沉積、夾附或還原(yuán)成相對無害的物質。在少數情況下,電解去除雜質(zhì)也有在陽極上進行的,使某些能被氧化的雜質,在通電的情況(kuàng)下,到達陽極上氧化為氣體逸出(chū)或變為相對無害的物(wù)質。


  一、電解條件的選擇

  這裏所(suǒ)指的電解,目的是要去除鍍(dù)液中的雜質,但是在電解去除雜質的同(tóng)時,往往也(yě)伴隨有溶液中主要(yào)金屬離子的放電沉積。為了提高去除雜質的速率,減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率,就要注意電解處理的操作條件。


  ① 電流密度:電(diàn)解(jiě)處理時,以控製多大的電流(liú)密度為好,原則上要按照電鍍時雜質起不(bú)良影響的電流密度範圍。也就是說(shuō),在電鍍過程中(zhōng),若雜質的影響反映在低電流密度區,那麽電解(jiě)處理時應控(kòng)製在(zài)低電流密度(dù)下進行,假使雜(zá)質的影響反映在高電流密度(dù)區,則應選用(yòng)高電流密度進行電解;如果雜質在高電流密度區(qū)和低電(diàn)流密度區(qū)都(dōu)有影響,那麽可先用高(gāo)電流密度電解處理一段(duàn)時間,然後再改用低電(diàn)流密度電解處理(lǐ),直至鍍液恢複正常。在一般情況下(xià),凡是用低電流密度電解可以去除的雜質,為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積,一般都采用低(dī)電流密度電解。事實上,電鍍生產中,多數雜質的影響反映在低電流密度區,所(suǒ)以通常電解處理(lǐ)的電流密度控製在0.1A/dm2~0.5A/dm2之間。


  ② 溫度和pH值:電解處理時溫度和pH的選擇,原則上也是要(yào)根據電鍍時雜質(zhì)起不良影響較大的溫度和pH範圍。例如鍍鎳溶液中(zhōng)的(de)銅(tóng)雜(zá)質(zhì)和NO3-雜質,在pH較低時的影(yǐng)響較(jiào)大,所以電(diàn)解去除鍍鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質時,應選用低pH進行(háng)電解,在這樣的條件下,去除雜質的速率較快。有(yǒu)些(xiē)雜(zá)質(zhì)在電解過程中會分解為氣體(如NO3-在陰極上還原為氮氧化物或氨,Cl-在陽極(jí)上氧化為Cl2,等,這時就應選(xuǎn)用高溫電解,使電解過程中形成的氣體揮發逸出(氣體在溶液中的溶解度,一般隨溫度升高而降低),從而防止它溶解於水而重(chóng)新沾汙鍍液。


  按照一般規律,隨著鍍液溫度的升高,電解去除雜(zá)質的速率也增大,所以當加溫對鍍液主要成分沒(méi)有(yǒu)影響時,電解處理宜在加溫下進行。但究竟以控製在什(shí)麽(me)溫度為好,最好通過小試(shì)驗確定。


  ③ 攪拌:電解處理既然是依靠雜質在陰極(或陽極)的(de)表麵上(shàng)反應而被除去,那(nà)麽就應(yīng)創造條件,使雜質與電極表麵有充分的接觸(chù)機(jī)會(huì)。攪拌可以加速雜(zá)質(zhì)運動,使它與電極的接觸機會(huì)增多,所以(yǐ)為了提高處理效果,電解時應(yīng)攪拌鍍液。


  二(èr)、電解處理(lǐ)的要求

  ① 首先要查明有(yǒu)害雜質是(shì)否來源於電(diàn)解過程:電解處理(lǐ)可以去除(chú)某些雜質,但有時也會產生雜質。例如有害雜質來源於不純的陽極,電解處理時(shí)仍用這種陽極,那麽隨著電解過程的(de)進行,雜質會越積越多;又如雜質來源(yuán)於(yú)某些化合物在電極(jí)上(shàng)的分解,那麽電解將使這類分解產物逐漸增多。這樣的電解處理,不但不能淨化鍍液,反而會不斷加重鍍液的汙染。因此,在電解處理前,要進行必要的檢查,預防處理過(guò)程中產生有害雜質。


  電解用的陰極(假陰極)麵積要盡可能大:用電解法(fǎ)去除雜質,大多(duō)是在陰極(jí)表麵上進行的,所以增大陰極麵(miàn)積(jī),可以提高去除雜(zá)質的效率n同時為了在不同(tóng)的電流(liú)密度部位電解去除鍍液中不同雜質或同一種雜質,要求(qiú)電解用的陰極做成凹凸的表麵(如瓦楞形),這樣可以(yǐ)提高電解處理的效果。但陰極(jí)上的凹處不宜太深(shēn),以防止電(diàn)流密度過小而(ér)使雜質不能(néng)在這些部位沉積或還原。


  ③ 電解過程中,要定時刷洗陰極:由於電解處理的時間一般(bān)都比較長,在長(zhǎng)時間的電解過程中,陰極(jí)上可能會產生疏鬆的沉積物,它的脫落會重新沾汙鍍液,所以在電解一段時間後,應將陰極取出刷洗,把陰極上疏鬆或不良的沉積物刷去後再繼續電解。


  ④ 電解處理(lǐ)前,最好先做小試驗估計一下電解處理的(de)效果和時間:有些雜質,用電(diàn)解處理很(hěn)難除去,若盲目地采用電解處(chù)理(lǐ),可能(néng)花了很長時間也不能使鍍液恢複正常。

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